Вакуумная печь оплавления припоя серии E
Вакуумная печь для оплавления является специализированным оборудованием, которое обеспечивает
технологическую среду для пайки электронных устройств методом нагрева в вакууме, с использованием
муравьиной кислоты или с положительным давлением. Оборудование широко используется в
корпусировании современных устройств, включая мощные полупроводниковые лазеры, лазеры для систем
оптической связи, лидары, приемо-передатчики, гибридные схемы, дискретные устройства, MEMS, IGBT,
мощные светодиоды, инфракрасные устройства и т. д.
Серия Е включает модели HC-VS21OE, HC-VS2OOE.
Серия Е включает модели HC-VS21OE, HC-VS2OOE.
Характеристики
|
Параметр
|
HC-VS21OE
|
HC-VS2OOE
|
|---|---|---|
| Модель | HC-VS21OE | HC-VS2OOE |
| Максимальная температура | 450 ℃ | 450 ℃ |
| Точность контроля температуры |
± 1 ℃ (0,5 ℃ опционально) |
± 1 ℃ (0,5 ℃ опционально) |
| Площадь нагрева | (227*217) мм2 | (350*290) мм2 |
| Однородность температуры | ±1.5 % | ±1.5 % |
| Слабый вакуум (механический насос) | ≤5 Па | ≤5 Па |
| Сильный вакуум (турбомолекулярный насос) | N | N |
| Скорость утечки вакуумной камеры | 5x10-8 мбар*л/с | 5x10-8 мбар*л/с |
| Модуль муравьиной кислоты | Стандартная комплектация | Стандартная комплектация |
| Функция положительного давления | N | N |
| Скорость нагрева (нагрев снизу без нагрузки) |
150 ℃/мин (200 опционально) |
150 ℃/мин (200 опционально) |
| Скорость охлаждения (N2-охлаждение без нагрузки) | 90 ℃/мин | 90 ℃/мин |
| Макс. высота размещаемого устройств | 100 мм | 100 мм |
| Верхний нагрев | N | Стандартная комплектация |
| Водяное охлаждение | N | N |
| Открытие/закрытие двери камеры | Полуавтоматический | Полуавтоматический |
| Интерфейс MES | Опция | Опция |
| Сканер штрих-кода | Опция | Опция |
| Модуль флюса | N | Опция |
| Характеристика | Значение |
|---|