Оптический векторный анализатор Luna OVA 5100
Оптический векторный анализатор OVA 5100 для комплексного измерения всех ключевых характеристик оптических компонентов (потери, дисперсия, поляризация) за одно сканирование длительностью менее 3 секунд.
Luna OVA 5100 является прямой заменой предыдущей модели OVA 5000, обладая эквивалентным функционалом в более компактном и легком корпусе. За один проход перестраиваемого лазера прибор измеряет полную передаточную функцию (матрицу Джонса) и на её основе рассчитывает все ключевые характеристики: вносимые и возвратные потери (IL/RL), групповую задержку (GD), хроматическую (CD) и поляризационную модовую (PMD) дисперсию, а также поляризационно-зависимые потери (PDL). Интерферометрический метод обеспечивает высочайшую точность и скорость, что делает OVA 5100 оптимальным инструментом для анализа пассивных компонентов, фотонных интегральных схем (PIC) и специальных оптических волокон.
Технические характеристики
Представлены обобщенные характеристики. Точные параметры зависят от режима измерений.
- Рабочий диапазон длин волн: 1525–1610 нм (модель OVA 5100) / 1270–1340 нм (модель OVA 5113).
- Время полного измерения: < 3 секунды для пассивных устройств.
- Динамический диапазон по вносимым потерям: до 80 дБ.
- Измеряемые параметры: IL, PDL, PMD (включая PMD 2-го порядка), CD, GD, RL, матрица Джонса, импульсный отклик.
- Погрешность измерения PDL: ±0.05 дБ.
- Погрешность измерения CD: ±10 пс/нм.
- Погрешность измерения PMD: ±0.08 пс.
- Максимальная длина тестируемого устройства: 150 м.
- Масса: 11.4 кг.
- Доступные опции: Рефлектометрия высокого разрешения (OFDR, 20 мкм), ПО для анализа поляризации, расширенный динамический диапазон.
Применение
Комплексный анализ компонентов: Полное определение всех характеристик волоконно-оптических компонентов за одно измерение: ответвителей, мультиплексоров (AWG), волоконных брэгговских решеток (FBG), фильтров, усилителей и специальных оптических волокон.
Тестирование фотонных интегральных схем (PIC): Анализ планарных световодных схем (PLC) и устройств на основе кремниевой фотоники.
Рефлектометрия высокого разрешения (с опцией OFDR): Локализация и анализ точек отражения внутри миниатюрных оптических компонентов и волноводов с микронным разрешением и без мертвых зон.
Разработка и моделирование: Получение полной передаточной функции (матрицы Джонса) для верификации и уточнения математических моделей оптических устройств.