Эллипсометр
Эллипсометр предназначен для бесконтактного измерения параметров тонких пленок и периодических структур, включая толщину пленок, коэффициент заполнения (duty ratio) и угол наклона боковых стенок. Прибор применяется в полупроводниковой, электронной и оптической промышленности, а также в научно‑исследовательских и метрологических лабораториях.
Эллипсометр реализует измерительный метод на основе анализа изменения поляризации отраженного света. Для определения геометрических и оптических параметров исследуемых структур используется сравнение измеренных оптических параметров с результатами оптического прямого моделирования.
В процессе обработки данных применяются алгоритмы оптимизации Левенберга—Марквардта (LM), методы сопоставления с библиотекой моделей и алгоритмы нейронных сетей, что позволяет извлекать структурные параметры исследуемых объектов с высокой точностью и эффективностью.
Основные измеряемые параметры
- толщина тонких пленок;
- коэффициент заполнения (duty ratio);
- угол наклона боковых стенок;
- параметры периодических (решетчатых) структур.
Основные особенности и преимущества
- высокоэффективные и точные измерения;
- бесконтактный метод измерений;
- применение оптического прямого моделирования;
- использование алгоритма Левенберга—Марквардта;
- библиотечное сопоставление моделей;
- применение алгоритмов машинного обучения (нейронные сети);
- высокая воспроизводимость и стабильность результатов.
Области применения
- полупроводниковая промышленность;
- контроль параметров фотолитографических структур;
- измерение тонких пленок и покрытий;
- прецизионная оптика;
- научно‑исследовательские и метрологические лаборатории;
- производство дисплейных панелей.